Tynn film NP laboratorie_PLD_sputtering kombinert system

Oppdragsgiver ber om tilbud på et system, som vil bli brukt for design og syntese av avanserte nanomaterialer og nanocomposites for et bredt spekter av nanoteknologi programmer. Systemet består av to sammenhengende vakuumkamre. Det første kammer er aggregering sone hvor tre sputtering mål kan være samtidig eller hver for seg dc sputret i en Ar-atmosfære. De tre magnetronene skal ha en uavhengig kontroll. Innenfor denne aggregerte sonen tar klynge kjernedannelse sted i en inert gassatmosfære ved et relativt høyt trykk, etterfulgt av vekst av større nanopartikler ved koalesens. Fremgangsmåten ved sputtering kan utføres ved forholdsvis høyt trykk (~ 10-1 mbar). i dette kammeret kan det fremstilles multikomponent nanopartikler og avsettes som frittstående nanopartikler eller som porøse filmer. Lengden av kammeret skal reguleres, og utløpspunktet fra kammeret bør ha ulik diameter. Det andre kammer består av ultrahøy vakuumkammer hvor avsetning av tynne filmen av pld teknikk er utført. pld måletområdet skal ha 5 roterende mål med mulighet for in-situ mål utvalg. Nanopartiklene blir trukket ut og akselerert av trykkforskjellen mellom det aggregeringssonen og avsetningskammeret gjennom en regulert åpning. Utformingen / geometri av kamrene skal tillate den samtidige avsetningen av tynn film og nanopartikler eller en post-landing av nanopartikler på overflaten av pld-film under kontrollerte forhold. Utstyret skal innarbeide programvaren for full kontroll over systemet, med mulighet til å operere i manuell modus hvis nødvendig. Systemet skal omfatte laser og tilsvarende tilbehør, alle klare for bruk. Leverandøren skal være ansvarlig for alle systemdeler, og skal være i stand til å reagere raskt og gi teknisk støtte for alle deler av (info fjernet) ytterligere krav til leveransen/systemet, vennligst se oppdragsgivers kravspesifikasjon i vedlegg 1 (se vedlagt).