Maskless aligner

Vi er ute etter en rask system som kan avsløre photoresists på en rekke underlag som strekker seg fra f. Eks 6 tommers wafers til små prøver. i øyeblikket er det to alternativer til mønsteret et stort utvalg av motstand i vårt renrom: 1. Ved hjelp av maskaligner, noe som krever en fotomaske for å være utformet og deretter sendes til et eksternt selskap for fabrikasjon. Behandlingstid for dette alternativet er vanligvis en til to uker, som selskapene er stort sett befinner seg i utlandet. Da design funksjonene på masken ofte endres gjennom en iterativ prosess, er det da nødvendig å bestille flere masker med mindre endringer over tid. Leveringstiden gjør dette til en flaskehals. Systemet vi leter etter skal være i stand til raskt å prototype design etter direkte eksponere motstå på en wafer, fotomaske blank eller annet substrat av interesse. Systemet bør også ta et visst press av eksisterende maskaligner og for å gjøre dette, er det nødvendig å være i stand til raskt å utsette selv store områder med høy oppløsning (ca. 1 pm). Ideelt sett bør det ta mindre enn 20 minutter eller så å eksponere en full fire tommers wafer på en mikron oppløsning med en svært tett layout. Dette vil gi våre brukere til å bestille den foreslåtte systemet i stedet for å bruke maskaligner ikke bare for prototyping, men også for dag-til-dag eksponeringer. i tillegg, i motsetning til tradisjonelle maskaligners, vil en ikke-kontakt-systemet tillate eksponering av fine funksjoner selv når store aspektforhold funksjoner bør allerede være til stede på substratet. 2. Det andre alternativet er vår Elionix e-beam system. Dette systemet gjør at prototyping ved ekstremt høye oppløsninger; men det ville være et misbruk av eiendeler og bortkastet tid å bruke det for de relativt store funksjonene som ofte utgjør en stor andel av et design. Det foreslåtte systemet bør dermed tillate en miks og match tilnærming, der større funksjoner (én mikrometer oppover) kan raskt eksponert på underlaget for valg med det foreslåtte systemet, og deretter har på nanometer skala kan nøyaktig på linje med de eksisterende funksjoner, eller vice (info fjernet) håper systemet åpner nye muligheter for forskning i renrom. Vi har for øyeblikket et fungerende alternativ for baksiden justering, en funksjon som ofte brukes i f. Eks mems. Det foreslåtte systemet skal gi dette enten med, eller som en potensiell (info fjernet) forventer at dette systemet vil skape mye interesse fra en stor brukergruppe. i tillegg til de tekniske spesifikasjonene, brukervennlighet (minimal setup, rask prøvemontering, intuitiv programvare, evne til å legge til funksjoner for eksponering in situ) og lave vedlikeholdsbehov er nøkkelen til kort bruker omsetning og å redusere tiden NanoLab ingeniører må bruker på systemet. Til slutt, ville systemer med en eksisterende Userbase i vårt nettverk med renrom ved universiteter i Norden eller Europa tillate utveksling av erfaringer både i prosessen og vedlikehold, noe vi har funnet å være svært verdifullt med andre typer (info fjernet) ytterligere krav til anskaffelsen, vennligst se den vedlagte tekniske spesifikasjonen i vedlegg 1.